常見雜質(zhì)主要來源于噴粉環(huán)境中的顆粒，以及其他各種因素引起的雜質(zhì)，現(xiàn)概括如下。
(1)固化爐內(nèi)雜質(zhì)。解決方法是用濕布和吸塵器清潔固化爐的內(nèi)壁，重點(diǎn)是懸掛鏈和風(fēng)管縫隙處。如果是黑色大顆粒雜質(zhì)就需要檢查送風(fēng)管濾網(wǎng)是否有破損處，有則及時(shí)更換。!
(2)噴粉室內(nèi)雜質(zhì)。主要是灰塵、衣物纖維、設(shè)備磨粒和噴粉系統(tǒng)積垢。解決方法是每天開工前使用壓縮空氣吹掃噴粉系統(tǒng)，用濕布和吸塵器清潔噴粉設(shè)備和噴粉室。
(3)懸掛鏈雜質(zhì)。主要是懸掛鏈擋油板和一次吊具接水盤(材質(zhì)為熱鍍鋅板)被前處理酸、堿蒸氣腐蝕后的產(chǎn)物。解決方法是定期清理這些設(shè)施! }.
(4)粉末雜質(zhì)。主要是粉末添加劑過多、顏料分散不均、粉末受擠壓造成的粉點(diǎn)等。解決方法是提高粉末質(zhì)量，改進(jìn)粉末儲運(yùn)方式。
(5)前處理雜質(zhì)。主要是磷化渣引起的大顆粒雜質(zhì)和磷化膜黃銹引起的成片小雜質(zhì)。解決方法是及時(shí)清理磷化槽和噴淋管路內(nèi)積渣，控制好磷化槽液濃度和比例。
(6)水質(zhì)雜質(zhì)。主要是前處理所使用的水中含砂量、含鹽量過大引起的雜質(zhì)。解決方法是增加水過濾器，使用純水做為兩級清洗水。
高真空方法 ：
真空鍍vacuum plating 真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類型較少，一般用來作較產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。
(1)真空蒸發(fā)鍍 在高真空容器中，將金屬材料加熱蒸發(fā)，并鍍著在制件表面上，形成與基體牢固結(jié)合的金屬或非金屬覆蓋層的過程稱為真空蒸發(fā)鍍，簡稱真空鍍或蒸發(fā)鍍，如真空鍍鋁，真空鍍鍍金等。
(2)濺射鍍 在高真空容器中，在低氣壓下使離子在強(qiáng)電場作用下轟擊膜料，使其表面原子逸出并沉積在制件表面上形成薄膜的過程稱為濺射鍍，如濺射硅、濺射銀等。
(3)離子鍍 在高真空容器中，在低氣壓下利用蒸發(fā)源蒸出的粒子，經(jīng)過輝光放電區(qū)部分電離，通過擴(kuò)散和電場作用，沉積于制件表面形成與基本牢固結(jié)合鍍覆層的過程稱為離子鍍，如鍍氮化鈦等。
(4)化學(xué)氣相鍍 在低壓下，利用氣態(tài)物質(zhì)在固態(tài)表面上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成與基體結(jié)合良好的固體沉積層的過程稱為化學(xué)氣相鍍（有時(shí)也有常壓下進(jìn)行）。如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。
(5)離子注入 在高壓電下將不同離子注入工件表面以改變表面性質(zhì)的過程稱為離子注入，如注硼等。
在靜電噴涂這個(gè)過程中，機(jī)械霧化的油漆顆粒帶負(fù)電，互相排斥，變得更加分散和均勻。因此，所形成的涂膜非常薄，具有良好的外觀和裝飾性，非常適合于面漆裝飾性建筑。
靜電噴涂好處優(yōu)點(diǎn)分享
由于電場的吸引，帶電漆霧被有效地吸收并沉積在工件表面，不僅附著力高，而且均勻地分布在整個(gè)表面。涂料利用率可達(dá)百分之八十以上，這就節(jié)約了油漆。
與空氣噴涂以及高壓無氣噴涂來比較，漆霧顆粒的流動速度較慢，但霧的分散性小得多，改善了工作環(huán)境條件，有利于工人的健康。
靜電噴涂適用于自動化大規(guī)模生產(chǎn)，噴涂輸送鏈的高速度可達(dá)24m/min，是手工噴涂的6倍，對復(fù)雜工件的角部有良好的噴涂效果，工件拐角處的電荷密度，沉積的涂層較厚，在表面張力的作用下干燥后涂層仍足夠厚。
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