涂裝噴涂生產(chǎn)線常見問題及解決方法
涂裝設(shè)備、工作環(huán)境、涂裝管理、涂裝工藝和材料直接關(guān)系到涂裝流水線的生產(chǎn)效率。在這個(gè)過程中，涂裝設(shè)備的工藝布局對(duì)涂裝流水線的使用有著重要的影響。這里我們將解釋涂層設(shè)備工藝布局中的典型錯(cuò)誤。
首先，輸出設(shè)計(jì)程序達(dá)不到:
有些設(shè)計(jì)沒有考慮涂裝設(shè)備的懸掛方式(不同的涂裝掛件應(yīng)考慮不同的懸掛方式)、懸掛距離、上下坡度和水平轉(zhuǎn)彎距離的干擾、廢品率、涂裝設(shè)備利用率、產(chǎn)品的峰值生產(chǎn)能力等。也不考慮生產(chǎn)時(shí)間。這將導(dǎo)致生產(chǎn)不符合設(shè)計(jì)指南。
第二，涂裝設(shè)備的工藝時(shí)間有一些偏差
為了降低成本，一些設(shè)計(jì)師經(jīng)常通過減少加工時(shí)間來實(shí)現(xiàn)他們的目標(biāo)。常見的有:1 .涂裝生產(chǎn)線前的過渡期不夠長，會(huì)導(dǎo)致液體串線；2.固化過程中沒有考慮具體的加熱時(shí)間，導(dǎo)致固化不良。3.油漆流平時(shí)間不足，導(dǎo)致漆膜流平不充分；4.固化后的冷卻時(shí)間不夠，導(dǎo)致涂裝過程中工件(或下部)過熱或固定不充分。
三、輸送設(shè)備設(shè)計(jì)不當(dāng):
從設(shè)計(jì)的角度來看，有很多方法可以運(yùn)輸這個(gè)工件。如果設(shè)計(jì)不正確，很容易對(duì)生產(chǎn)能力、工藝操作和上下部件產(chǎn)生不利影響。常見的是懸掛鏈運(yùn)輸，其承載能力和牽引能力需要計(jì)算和干涉圖。鏈條的速度也需要設(shè)備的匹配。噴漆設(shè)備還需要鏈條的穩(wěn)定性和同步性，這在設(shè)計(jì)時(shí)應(yīng)予以適當(dāng)考慮。
高真空方法 ：
真空鍍vacuum plating 真空鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型，它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類型較少，一般用來作較產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。
(1)真空蒸發(fā)鍍 在高真空容器中，將金屬材料加熱蒸發(fā)，并鍍著在制件表面上，形成與基體牢固結(jié)合的金屬或非金屬覆蓋層的過程稱為真空蒸發(fā)鍍，簡稱真空鍍或蒸發(fā)鍍，如真空鍍鋁，真空鍍鍍金等。
(2)濺射鍍 在高真空容器中，在低氣壓下使離子在強(qiáng)電場作用下轟擊膜料，使其表面原子逸出并沉積在制件表面上形成薄膜的過程稱為濺射鍍，如濺射硅、濺射銀等。
(3)離子鍍 在高真空容器中，在低氣壓下利用蒸發(fā)源蒸出的粒子，經(jīng)過輝光放電區(qū)部分電離，通過擴(kuò)散和電場作用，沉積于制件表面形成與基本牢固結(jié)合鍍覆層的過程稱為離子鍍，如鍍氮化鈦等。
(4)化學(xué)氣相鍍 在低壓下，利用氣態(tài)物質(zhì)在固態(tài)表面上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成與基體結(jié)合良好的固體沉積層的過程稱為化學(xué)氣相鍍（有時(shí)也有常壓下進(jìn)行）。如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。
(5)離子注入 在高壓電下將不同離子注入工件表面以改變表面性質(zhì)的過程稱為離子注入，如注硼等。
使用靜電噴塑設(shè)備將粉末涂層噴涂在工件表面。在靜電作用下，粉末均勻吸附在工件表面，形成粉末涂層。粉末涂料經(jīng)過高溫烘烤、整平和固化后會(huì)變成不同效果的涂層。噴涂效果在機(jī)械強(qiáng)度、附著力、耐腐蝕性和耐老化性方面優(yōu)于噴涂工藝。
工件通過輸送鏈進(jìn)入粉末噴涂室的噴位置，準(zhǔn)備噴涂作業(yè)。靜電發(fā)生器通過噴噴嘴的電極針向工件方向的空間釋放高壓靜電。來自噴噴嘴的粉末和壓縮空氣的混合物以及電極周圍的空氣被電離(帶負(fù)電)。
工件通過吊架并通過輸送機(jī)連接地面，從而在噴和工件之間形成電場。粉末在電場力和壓縮空氣壓力的雙重推動(dòng)下到達(dá)工件表面，并通過靜電吸引在工件表面形成均勻的一層。
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